記者近日從中國電子科技集團采訪獲悉,由該集團旗下電科裝備自主研制的高能離子注入機成功實現(xiàn)百萬電子伏特高能離子加速,性能達(dá)國際主流先進(jìn)水平。這意味著在芯片自主研制的道路上,中國又攻克了一樣受制多年的核心裝備。
電科裝備離子注入機總監(jiān)張叢對人民網(wǎng)記者表示,電科裝備將在年底前推出首臺高能離子注入機,實現(xiàn)我國芯片制造領(lǐng)域全系列離子注入機自主創(chuàng)新發(fā)展,并將為全球芯片制造企業(yè)提供離子注入機成套解決方案。
芯片國產(chǎn)化任重道遠(yuǎn)
據(jù)了解,在我國,每年的芯片進(jìn)口額度超過了石油,在進(jìn)口商品中位列第一。
根據(jù)國家海關(guān)數(shù)據(jù)統(tǒng)計,2018年,中國芯片進(jìn)口總量為3120億美元,占全球集成電路5千億美元市場規(guī)模的60%左右。而同期,中國芯片的出口額僅為846億美元。進(jìn)出口差額巨大。
也就是說,世界上每生產(chǎn)5塊芯片,中國就買走了3塊。
業(yè)界普遍認(rèn)為,在芯片領(lǐng)域,中國與國際先進(jìn)水平相比差距巨大。其中又以產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)的裝備和材料差距最大。指令集、芯片設(shè)計EDA軟件、芯片制造設(shè)備和材料……如果說,芯片的自主研發(fā),是一場長期而持久的“硬仗”,那這每一個制造設(shè)備,都是一座亟待攻克的“城池”。
面對終端需求的快速更替和技術(shù)的快速迭代,“芯片國產(chǎn)化”已經(jīng)成為國家未來長期重要的發(fā)展戰(zhàn)略。
芯片制造的核心關(guān)鍵裝備
據(jù)了解,離子注入機是芯片制造中至關(guān)重要的核心關(guān)鍵裝備。
一直以來,我國離子注入機嚴(yán)重依賴外國,國產(chǎn)率極低,特別是百萬伏高能離子注入機,研制難度極大。
芯片是高度集成的電路。手指甲蓋大小的芯片里集成了上百億的晶體管,其主要成分是硅,硅的導(dǎo)電性介于導(dǎo)體和絕緣體之間,因此也被稱為半導(dǎo)體。
張叢告訴記者,在芯片制造過程中,需要摻入不同種類的元素以按預(yù)定方式改變材料的電性能,這些元素以帶電離子的形式被加速至預(yù)定能量并注入至特定半導(dǎo)體材料中。這就是離子“注入”的過程。不同的注入劑量、注入角度、注入深度等都會影響芯片的性能、成品率和壽命,這一過程全靠離子注入機來控制。
“而高能離子注入機,是離子注入機中技術(shù)難度最大的機型。”張叢對記者表示,長久以來,因其極大的研發(fā)難度和較高的行業(yè)競爭壁壘,被稱為離子注入機領(lǐng)域的“珠穆朗瑪峰”,是我國集成電路制造裝備產(chǎn)業(yè)鏈上亟待攻克的關(guān)鍵一環(huán)。
同類公司全世界僅有6家
記者從中國電科了解到,目前世界范圍內(nèi)以集成電路領(lǐng)域離子注入機為主要業(yè)務(wù)的公司共有6家,除國內(nèi)電科裝備外,其它為美國AMAT/Varian和Axcelis,日本SMIT和Nissin,中國臺灣地區(qū)AIBT。
集成電路領(lǐng)域離子注入機包括三種機型,大束流離子注入機、中束流離子注入機和高能離子注入機。
在上述6家主要集成電路領(lǐng)域離子注入機供應(yīng)商中,美國AMAT/Varian和Axcelis、日本SMIT擁有全系列離子注入機產(chǎn)品;日本Nissin主要產(chǎn)品為中束流離子注入機,大束流正在研發(fā)之中;臺灣AIBT只涉及大束流離子注入機產(chǎn)品業(yè)務(wù);電科裝備擁有大束流和中束流離子注入機產(chǎn)品,但高能離子注入機還在研發(fā)之中。
其中,Axcelis的前身為Eaton,在高能離子注入機領(lǐng)域占據(jù)了近乎壟斷地位。
2020年底推出首臺設(shè)備
電科裝備是國家863和《極大規(guī)模集成電路制造技術(shù)及成套工藝》重大專項接續(xù)支持的、目前國內(nèi)唯一的集成電路領(lǐng)域離子注入機供應(yīng)商,在離子注入機領(lǐng)域具有較好的技術(shù)積淀。此前,已連續(xù)突破中束流、大束流、特種應(yīng)用及第三代半導(dǎo)體等離子注入機產(chǎn)品研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化難題,產(chǎn)品廣泛服務(wù)于全球知名芯片制造企業(yè)。
其中,自主研發(fā)的中束流離子注入機產(chǎn)品較成熟,開始批量進(jìn)入客戶端,覆蓋國內(nèi)主要集成電路大生產(chǎn)線;大束流離子注入機已進(jìn)入客戶端,尚處于產(chǎn)業(yè)化初期。此外,公司還建立了符合SEMI標(biāo)準(zhǔn)要求的離子注入機產(chǎn)業(yè)化平臺。
張叢透露,目前,高能離子注入機還在研發(fā)階段,預(yù)計2020年底推出國內(nèi)首臺,2021年一季度進(jìn)入客戶端。
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